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徑流分子泵在多弧離子鍍膜設備的最新應用

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發表于 2018-5-3 16:18:49 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
徑流分子泵在多弧離子鍍膜設備的最新應用
張永勝,儲繼國
1. 亞智系統科技(蘇州)有限公司,江蘇蘇州215011;
2.深圳大學,深圳518060
THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS
ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo
1. Manz Coating GmbH,Suzhou Jiangsu 215011,China;
2. Shenzhen University,Shenzhen 518060,China

摘要 通過對新開發問世的徑流分子泵進行介紹,其獨特抽氣特性,為多弧離子鍍的工藝優化提供了理論依據。傳統多弧離子鍍的抽氣工藝和鍍膜工藝,是在擴散泵和渦輪分子泵抽氣能力的制約下總結出來的。徑流泵機組的問世,為多弧離子鍍膜提供了更加寬廣的鍍膜工藝選擇空間。這樣就有必要對抽氣工藝和鍍膜工藝進行重組和優化,進一步提升多弧離子鍍膜設備的性能和經濟效益。

關鍵詞 : 多弧離子鍍,  徑流分子泵,  鍍膜工藝,  抽氣特性   

Abstract:This paper introduces the newly developed radial molecular pump(RMP). The theory of process optimization isbased on the special pump curve. The pump process and the coating process were developed according to restricted diffusion pumps and the TMPs. After the RMP is developed,it can extend the process windows for arc ion plating coating.It is necessary to optimize the pump process and the coating process to make the coater performance better.

Key words: arc ion plating           Radial Molecular Pumps(RMP)           coating process           pump speed

作者簡介: 張永勝(1983-),男,江蘇省洪澤人,碩士,從事真空鍍膜、徑流分子泵研究工作。

引用本文: 張永勝,儲繼國. 徑流分子泵在多弧離子鍍膜設備的最新應用[J]. 真空與低溫, 2016, 22(2): 111-113.       
ZHANG Yong-sheng,CHU Ji-guo. THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS. journal1, 2016, 22(2): 111-113.

文章來源:《真空與低溫》雜志2016年22卷2期

刊出日期:2016-04-30

鏈接地址:http://www.lipcast.cn:81/zkydw/CN/abstract/abstract82.shtml


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